勝ったな、風呂入ってくる！

どうせ技術を盗まれるんじゃないの？

シェア取り返すのかな？どうだろう。

半導体の回路は、マスク越しに光を当てて作るということを初めて知った
押し付けるナノインプリント方式は特にコスト面で期待できるけど、ごみの付着による不良品発生率が高まるという課題があるらしい

10年くらい前も同じ話を聞いた気がする

ようわからんけど、凄そう。

メジャーじゃないけどENEOSもやってた気がする。

ナノインプリントみたいな細かい試行錯誤的な技術は日本企業が得意とするところだね。パクられないといいが。

・・・判子だにゃあ！いいんでないかい！

超朗報！ 大逆転しそうだ！

リソで日本にも活路が！

( ๑º ３º)y-～おー、がんばれー🎊

2025実用化目指す、ねぇ(悪くはない)

Japan as No.1
への第一歩
国費を投じるなりして育ててほしい
半導体製造メーカーにも国費投入して私企業の負担軽減すればまだまだ日本は大丈夫！
と願いたい

また来た！怖い記事。

おーっ！

ナノインプリント

いいね

と言ってたら…

「技術の基本的な課題は解決し、量産を想定した運用の検討に入った」

＞ロジック半導体への展開も想定

日本🇯🇵製にこだわる。それが日本🇯🇵経済復活になる。

海外企業が優位の｢露光技術｣の分野で日本企業に逆転の目が出てくる画期的技術が実用化される

面白そうじゃないか

これが日本のハンコ文化や！ちがうか

ナノインプリントきましたか

おー、実用化のメドたったのか！

実際の生産ラインが出来ないと評価は難しいなぁ。

"ハンコを押すように回路を形成する「ナノインプリント」を2025年にも実用化する。一部の工程が不要になり、設備投資を数百億円、対象工程の製造コストを最大4割減らせる見込み"

電力が少なくて済むというのは良いね。ASMLのシェアを奪えるくらいのレベルまで行ければいいんだけど。
>

盗まれないようにね！

キオクシア、キヤノン、大日本印刷はハンコを押すように回路を形成する「ナノインプリント」を2025年にも実用化する。一部の工程が不要になり、設備投資を数百億円

うふ。立体化！光通信接続へ

これは期待できそう！

ナノインプリント...

ナノインプリントはすごく期待してる

やるじゃん！と思うのだけれど

ナノインプリント、ようやく実用化か。

半導体、ハンコ製法で逆襲

日本の半導体、復活なるか！？

ナノインプリント技術。すでにキャノンは東芝に実機を納入済み。期待は大きいが課題も山積。イールドをどこまで高められるか。。。がんばれ日の丸半導体！

これも10年前から今にも実用化って言い続けてるなあ

NANDは微細化は求めてないので、違うメモリかなと。

興味深い記事です
現状ASMLの独占場であるEUV露光装置に取って代われるかもしれないナノインプラントの技術
5年、10年後に半導体微細化技術のゲームチェンジャーになれれば、日の丸半導体の復権なれそうだが、、、

先端半導体の回路描く露光技術で世界リードできる可能性あるねんて。

こんな記事もありますよ。

15年の発表でも11nmL/Sや14nm穴は一応実現していましたが、問題は微細化よりも処理時間、パーシャルフィールド対策、位置合わせや、なんと言っても欠陥密度(ゴミ)です。Logicなどに適用出来るのはまっだまだ先でしょう。そういう意味で日経記事の後半は飛ばし過ぎですね。

門司港師匠
キャノンお持ちのようで！
ポール師匠が、ＢＫＢ（バイク川崎バイク）と叫んでおられましたのでＢＫＢさんに聞いてみました。

半導体に革命が起きますね！
（キャノン、大日本印刷、キオクシア、）DKD連合
これ2025年には、実用化へ。 熊本工場不要かも。

中国、韓国に技術を盗まれないようにして欲しい。
中国、韓国、海外に日本の技術が流出するのを防ぐには
スパイ防止法が絶対に必要だ。

ナノインプリントはEUVよりもNANDで使われている液浸ArFとの比較の方が気になる。ダブルパターニングの工程削減とか。EUVは置き換えるというより住み分けを目指す方が現実的では。

実用化されれば世界初
半導体のハンコ製法「ナノインプリント」で日本勢逆襲か
キオクシア・キヤノンが2025年実用化へ

明るいニュース！

日本勢の「ナノインプリント」なる露光技術が2025年に実用化。一部課題はあるが、ASMLのEUV露光装置より製造コスト4割減、消費電力9割減という圧倒的優位性。マジならかなり熱い展開が期待できそう。

従来の露光装置とコンセプトが異なるナノインプリント。見応えがあります。
レンズ、マスクブランクがいらない世界とは…

「ナノインプリントはコストがかさむ露光工程の一部を省けるため、EUVに比べて同工程の製造コストを4割、消費電力も9割削減できる」「現時点で線幅が15nm相当に対応するが、3社は今後さらなる微細化も狙う」

面白くなくはないんだが、現時点で届かない高みにあるEUV使用プロセスとの比較は無意味だなぁ。15nならEUV使わないじゃんよ……(´・ω・｀)
--

ナノインプリントはEUVに比べ製造コストを4割削減でき、消費電力を9割削減できる。
とはいえ、2025年に実用化ならまだ先かな。キヤノン、それまで頑張って。

これって露光装置いらなくなるから、レザテの検査装置もいらなくなるってことですよね？

実用化を2025年といっているのになぜ今記事にする？

「技術の基本的な課題は解決し、量産を想定した運用の検討に入った」にしては、時間かけ過ぎのような気がする。

15nmまでいけてステッパー不要らしいけど、ほんまかいなって感じ。：

頼むから絶対技術流出させるなよ。
技術が確立すると待ってましたとばかりに他国が先行して生産を始める不思議。
メイド・イン・ジャパンが買いたいのだよ。
>>>

ナノインプリント。(._.)φメモ

日本は判子が得意だからねぇ。

むしろまだ実用化してなかったのか

みなさ～ん。
素敵なニュースです。
うれしいな。

2017年に東芝メモリ（当時）に納入したナノインプリント半導体製造装置による量産への取り組みが結実し始めたってことかな

すごい

の回路を描くために不可欠な「 はハンコを押すように回路を形成する「 します。日本勢が存在感を高められる可能性があります。

へー、
良さそうな話。

>ハンコを押すように回路を形成する「ナノインプリント」を2025年にも実用化する。一部の工程が不要になり、設備投資を数百億円、対象工程の製造コストを最大4割減らせる見込み。

スゴイ発想だな👏
↓

これは…実現するともう半導体工場を作る費用も生産費用も劇的に減る。
しかも素材や部品、装置の輸送コストの方が割合が高くなる分、日本に有利だけど…
また日米半導体協定みたいな、技術力で劣っている為に日本に負けていたアメリカがジャイアンモード発動しなければだけど

面白いのが出てきた。後で読む。

これは朗報。

»

どうやって３次元のパターンができるんだろ？

これ実用化したら露光・焼き付け・切り出しの部分が省略できるので、半導体前工程業界においては革命的だろうな

早く量産実用化して、シェアを増やしてほしい。あまり他国に握られていると、中が悪くなった時困ると思う。

ん～、ちょっと２０２５年は悠長すぎるんじゃないかな～
技術実証機が動いているのならもっと早く量産に導入しないと使おうと思ってた頃には必要スペックが上がってて採用されないとかになるよ

ナノインプリントは期待できるのだろうか・・・量産、3ナノ(N3E)→2ナノの流れ、アップルなどのような大口のお客さん、いろいろ課題がありそうな。。

2025年、ってのがちょっとだけ引っかかるが、これが5nm量産にも有用なら喜ばしい。／と書いて思ったが、これもしかして積層可能なのか？だとしたら逆襲レベルじゃないが。調べてみるか。

DNPやキャノンが上がってるのは、半導体製造に新しいナノプリンティング方式を実用化させたからか。

エラー率が高いからメモリくらいにしか使えないとも聞くが。日本企業は技術革新で一発逆転狙い過ぎ、という言葉が頭をよぎる
経営が無能なので大型投資ができないのをこれで挽回？ 同じ轍では？

これ結構すごいニュースなのでは！？

✅2017年から稼働、実用化メド
✅2025年実用化
✅現状は15nm
✅製造コスト4割減
✅消費電力9割減

俺の知っている半導体の製造方法と全然違う…！こんなことできちゃうのかよ！

ふむ。

電源配線ぐらいにしか使えなさそう！

もうニコンは生き残れない気がしてきた…

素晴らしい👏👏👏

先端半導体の回路を描くために不可欠な「露光技術」で日本企業に逆転の目が出てきた。キオクシア、キヤノン、大日本印刷はハンコを押すように回路を形成する「ナノインプリント」を2025年にも実用化する

いいじゃん！頑張れ。

実現して欲しいですね。
＄ASML どうかな、、

このニュース、中長期ではレーザーテックには逆風になると思うんですけど。

ﾊﾟﾖﾁﾝｻﾞﾏｧ🤑

「ナノインプリントは装置や材料など幅広い技術が必要なため日本が先行。実用化されれば世界初」「コストがかさむ露光工程の一部を省けるため、EUVに比べて同工程の製造コスト4割、消費電力9割削減」・・日本巻き返し

キオクシア・キヤノン・大日本印刷、露光装置、ナノインプリント、現在15ナノ

ナノインプリントだと等倍の版が必要。どうやって作製するか?

と言いながらメーカーが中国に外注生産するので実質逆襲できないでしょ。

世界に遅れている先端半導体で日本が巻き返すチャンスが出てきたと日経が伝えている。それもハンコ技術で？！頑張れ日本技術❣😍👍👏👏👏

露光分野で日本企業に逆転の目が出てきた。

線幅細いやつでどれだけ歩留まり上げられるかなんだろうな

10nm未満の先端プロセスはこれでいけるの？

この話、2度目の登場ですね。実用化するとよいですね。

ナノ院プリント！

> 製造装置でも、日本勢は世界シェア約3割を握るが、線幅10ナノメートル以下に使うEUVはASMLが独占する。ナノインプリントはここにも風穴を開ける可能性を秘める。

この技術にはがんばってほしい。
思い出のある響き、ナノインプリント！